二、實驗制作

拋光硅片（直徑 100 mm，厚(hou)度(du) 500 lm， 100 方向，P/B 摻雜，大(da)學晶(jing)(jing)圓(yuan)）襯底 （通常(chang)切成 1.2 3 1.2 厘(li)米）通過沖洗制(zhi)備 用(yong)甲苯(ben)(ben)、丙酮(tong)和去離(li)子水，在下干燥 氮，然(ran)(ran)后(hou)用(yong) Harrick 氧等(deng)離(li)子體處理 250 mTorr 持續(xu) 20 分鐘(zhong)。 氧化層厚(hou)度(du)用(yong)橢(tuo)偏(pian)儀(yi)測量(liang)（折射(she)(she)率，n1 5 1.46-設(she)置，LSE Stokes 橢(tuo)偏(pian)儀(yi)，Gaertner, Inc.）。 將表(biao)面(mian)改(gai)性(xing)的(de)(de)基(ji)材(cai)轉移到(dao)密(mi)封的(de)(de) 20 mL 閃(shan)爍瓶(ping)中(zhong)，該瓶(ping)中(zhong)裝(zhuang)有 1 L 正十(shi)八烷基(ji)三氯硅烷 (ODTS)（95%，Gelest， Inc.）和 999 lL 甲苯(ben)(ben)（使用(yong)來自 Fisher Scientific） （按(an)體積計 0.1% ODTS）。 每個(ge)(ge)小瓶(ping)都放入冰水中(zhong) 浴 1 小時(shi)，將溫(wen)度(du)調節至 1 8C。 1 小時(shi)后(hou)， 按(an)照相同的(de)(de)預處理過程沖洗和干燥每個(ge)(ge)小瓶(ping)中(zhong)的(de)(de)改(gai)性(xing)硅晶(jing)(jing)片，但不(bu)包括 20 分鐘(zhong) 氧等(deng)離(li)子體處理。 然(ran)(ran)后(hou)將晶(jing)(jing)片在 120 8C烘箱2小時(shi)，冷卻至室溫(wen)，在甲苯(ben)(ben)中(zhong)超聲(sheng)60秒(miao)。 晶(jing)(jing)片再次沖洗并 干了(le)。 ODTS 層的(de)(de)厚(hou)度(du)測量(liang) 橢(tuo)偏(pian)儀(yi)（ODTS，折射(she)(she)率，n2 5 1.457，Gelest, Inc.）作為 28.8 6 0.83 ?（20 個(ge)(ge)樣品的(de)(de)平均值(zhi)）[圖。 1(A)]。 控制(zhi) 表(biao)面(mian)能，改(gai)性(xing)ODTS層用(yong) 不(bu)同曝(pu)光時(shi)間的(de)(de) UVO（Jelight 342 UVO 系統(tong)）。 緊接著，基(ji)板(ban)被用(yong)于(yu)測量(liang) 動態接觸(chu)角或流涂(tu)。

圖 1 (A) 制備具有(you)可調表(biao)面能的(de)(de)基材(cai)然后應用流涂(tu)工藝(yi)的(de)(de)示意圖。 (B) 動態(tai) 接(jie)觸角包(bao)括作為(wei) UVO 時間函數(shu)的(de)(de)基材(cai)的(de)(de)前進（實(shi)心(xin)數(shu)據(ju)(ju)點）和(he)后退（開放數(shu)據(ju)(ju)點）。 使(shi)用水(shui)（黑色數(shu)據(ju)(ju)點）和(he)甲苯(ben)（藍(lan)色數(shu)據(ju)(ju)點）的(de)(de)液體(ti)。 誤差棒表(biao)示三個的(de)(de)標準偏(pian)差 獨立樣本(ben)。 (C) 在具有(you)可調表(biao)面能的(de)(de)基材(cai)上制造的(de)(de)結構(gou)，從無沉積、超支化結構(gou)到通過(guo)流涂(tu)的(de)(de)水(shui)平(ping)線。 此處使(shi)用的(de)(de)其他流涂(tu)參數(shu)是初(chu)始濃度 co，如 0.5 mg/mL，停止時間 t 為(wei) 100 ms，設置距(ju)離(li) d 為(wei) 5 lm。

動態接觸角測量

使用去離子水和甲苯(ben)確定 ODTS 處理(li)過的(de)基材的(de)前(qian)進和后退接觸角 在室溫下（VCA-optima TM, AST, Inc.）。

聚苯乙烯柔性葉片流涂

流涂(tu)以程序速度(du) (v) 進行 （基板移動的(de)速度(du)），設置距(ju)離（d）（距(ju)離 基板移動）和(he)停(ting)止時(shi)間（t）（基板的(de)時(shi)間 暫停(ting)）下移動 - 停(ting)止交替步驟(zou)（支持信息，圖(tu) S1）。 在(zai)(zai)這項工(gong)作中，編程速度(du) v 是 保(bao)持恒定在(zai)(zai) 1 毫(hao)米/秒。 流涂(tu)技術在(zai)(zai)參考文獻 11 和(he) 12 中詳細(xi)討論。 最近(jin)報道(dao)了流涂(tu)技術的(de)改進，12 聚對苯二(er)甲酸乙(yi)二(er)醇酯 (PET) 葉片用(yong)(yong)作頂部(bu)限制邊界。 靈活的(de) PET 刀片（75 lm 3 2 cm 3 4 cm） 將(jiang)在(zai)(zai)本(ben)作品中使用(yong)(yong)。 溶劑區是通過刻(ke)劃 PET 刀片距(ju)彎液面(mian)邊緣(yuan) 1 毫(hao)米。 使用(yong)(yong)的(de)解(jie)決方案(an) 這里報道(dao)的(de)流涂(tu)實(shi)驗是聚苯乙(yi)烯 甲苯溶液（聚苯乙(yi)烯， Mn 5 1100 kg/mol，PDI 5 1.15，Polymer Source, Inc.）。 就(jiu)地 結構(gou)形成(cheng)的(de)觀察是用(yong)(yong) 正置光(guang)學(xue)顯(xian)微鏡（Zeiss Axio Tech Vario、Pixel Link CCD 相(xiang)機）。

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結構——摘要、簡介

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結構——實驗制作

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結構——結果和討論

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結構——結論、致謝！